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納米壓印光刻系統

簡要描述：納米壓印支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

  • 產品型號：EVG610
  • 廠商性質：代理商
  • 產品資料：
  • 更新時間：2026-04-27
  • 訪  問  量： 22155

詳細介紹

該設備支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

納米壓印機技術數據：
晶圓直徑 （基板尺寸）
標準光刻 碎片蕞大150毫米
柔軟的UV-NIL 蕞大150毫米的碎片
解析度 ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程 柔軟的UV-NIL
曝光源 汞光源或紫外線LED光源
自動分離功能 不支持
工作印章制作 外部
 
納米壓印機特征：
1) 頂部和底部對準能力
2) 高精度對準臺
3) 自動楔形誤差補償機制
4) 電動和配方控制的曝光間隙
5) 支持新的UV-LED技術
6) 蕞小化系統占地面積和設施要求
7) 分步流程指導
8) 遠程技術支持
9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

納米壓印機主要應用：
具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
附加功能：
1) 鍵對準
2) 紅外對中
3) 納米壓印光刻
4) 微接觸印刷
納米壓印工藝結果：

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結果（100納米分辨率）


EVG610 納米壓印光刻系統作為緊湊型多功能研發級掩模對準系統，正面對準精度可達 **≤±0.5μm**，背面對準與紅外對準精度≤±1μm，配合自動楔形誤差補償、電動配方控制曝光間隙，可有效保障多層圖形套刻精度，大幅提升微納結構制備良率與工藝穩定性。設備支持汞燈與新一代 UV-LED 雙曝光光源，UV-LED 方案能耗更低、波長更穩定、壽命更長，可適配更多光敏壓印材料，進一步拓寬工藝適用范圍。

其專有的均勻接觸力卡盤設計，兼容軟質與硬質印章，配合可編程高低壓接觸力與印章釋放機構，在小芯片至 150mm 基板的壓印工藝中，實現全域均勻壓印，有效避免圖案缺陷。設備光刻與 NIL 工藝切換僅需數分鐘，搭配分步式流程引導、多用戶權限管理與多語言界面，兼顧新手易用性與專家級工藝調控需求，適配高校教學、科研院所研發及企業小批量試制場景EV Group。

該系統可廣泛應用于MEMS、半導體器件、微流控芯片、微納光學、生物芯片、先進封裝等領域，支持紫外光刻、鍵對準、紅外對中、微接觸印刷等多種工藝，提供臺式與防震花崗巖臺單機版兩種安裝形式，以極小占地面積滿足嚴苛實驗室空間與環境要求，遠程技術支持功能可快速響應售后需求，是微納加工研發領域的通用型核心裝備。

 

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